领域几乎是巨无霸的存在，而他们对于与中国企业合作也是很欢迎，无奈一些关键细节上被美国卡死。

  中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机，特别是 EUV （极紫外光源）光刻机，不过ASML对这个机器是不放行的，主要是美国强制要求。

  EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了 22nm-7nm，能够说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备，只有ASML能造出来。

  2018年4月，中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机，价值1.2亿美元（约合人民币8亿元），预计2019年年初交货。后来此事被报道后，ASML回应称，对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁，且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时，荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。

  不过，最终这个交易也没形成，根据知情人士的说法，美国立即盯上了这一笔交易——接下来的几个月里，美方官员至少四次与荷兰官员开会，讨论可否直接封杀这笔交易。

  此后，关于 EUV 光刻机向中国出口，ASML 的官方说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。

  在这之前，ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况，其表示一些情况下，出口光刻机是不需要许可证的。

  Roger Dassen指出，ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释，当然也知道这些与特定的中国客户紧密关联，但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义（对于特定的中国客户），则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。

  美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他几个国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。

  目前的光刻机大致上可以分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本极大的提升，而且良品率也难以控制。

  EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但假如没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星Intel的5nm产线就无法投产。

  问题沟通时，负责人做出了保证，他们有能力远程锁控芯片制造设备。 这就意味着

  据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）

  10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。

  公司技术创新的新高度，也为全球半导体制造业的发展带来了新的契机。目前，全球仅有两台高数值孔径

  实现突破性成果 /

  Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲

  Twinscan NXE:3800E 完成安装 /

  官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。

  曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种

  大的冲击！国内芯片厂商的股价很能反映这些影响。 出口管制涉及的范围十分普遍，不管是技术、设备、产品甚至是高端人才

  有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台